!!最新情報!!
PLASUS社が5月2日~5日に米国で開催される、SVC TechCon 2022 conferenceに出展します。ブース番号は#531です。

もし、その展示会に行かれる予定が御座いましたら、是非お立ち寄り下さい。

 

At the SVC TechCon 2022 conference, PLASUS will present its latest development for plasma monitoring and process control.

At the accompanying industrial exhibition on May 3rd and 4th we will exhibit at our booth #531.

 

- The EMICON LC SYSTEM

- The new SPECLINE 3 Software

- Combined in-situ process monitoring of plasma and layer

 

As part of the technical program, our experts will present the latest developments in two lectures:

 

Advanced process control by combining real-time measurements of process and product properties => link to abstract

Plasma Processing Session, Monday, May 2nd, 12:50 pm, Room 104C, PP2, Dr. Jan-Peter Urbach

 

Enhancing production control with new layer control module for EMICON systems => link to abstract

Vendor Innovators Showcase, Wednesday, May 4th, 9:30 am, Room 104C, V21, Dr. Thomas Schütte

 ドイツPLASUS社 EMICON MCシリーズ

! 高分解能(1.4 or 0.15nm/FWHM)
! 3-7倍の反応性スパッタ成膜の高速成膜
! 独自のリアクティブスパッタ成膜制御
! プラズマ異常をリアルモニターし、外部出力
! エンドポイント制御
!新!! 液化ガス使用CVDで、MFC、電源(ヒータ)変更による発光強度制御

200~1100nm間の任意のLine Integral(積分)値で
 プロセスコントロール
   (納入実績1000チャンネル以上)

News;
稼働中のリアクティブHIPIMSプロセのPIDコントロールを発表
(詳細をご希望の方は当社にお問い合わせ下さい)

PLASUS社オリジナル発光波長ラインの自動同定発光強度値表示

              SpecLineソフト

 

″約60万種類の公的データベースから、原子、分子、イオン波長ラインの同定を自動で行います。又、採った各データの発光強度値もスペクトルグラフの各ラインに表示しますので、各データの発光強度の違いを比較できます。”

 

SpecLine発光分析ソフトだけの販売も行っています!!

 

① 発光グラフ画面を呼び出す

② 原子、分子、イオンを設定画面に入力

③ Startボタンを押すと、発光グラフ画面上に瞬時に波長ラインの同定候補を表示

④ 同定候補から、ルールによりラインを同定する

 

 

 

 

 

 

 

   AHA 
TMP ステーションカート

 Thin Film Consulting

マグネトロンスパッタカソード

     MAGPULS
 HIPIMS用パルス電源